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布圖設(shè)計(jì)的保護(hù)模式

鑒于布圖設(shè)計(jì)對(duì)于微電子技術(shù)及行業(yè)的重要性，有必要為其提供充分的法律保護(hù)。理論上存在兩種基本選擇:一是利用現(xiàn)有的專利法、著作權(quán)法、反不正當(dāng)競(jìng)爭(zhēng)法等對(duì)其加以保護(hù)，一是制定專門(mén)法對(duì)其加以保護(hù)。

(一)著作權(quán)法保護(hù)模式

布圖設(shè)計(jì)作為一種三維配置形態(tài)的圖形設(shè)計(jì)，與著作權(quán)法保護(hù)的作品有一定的相似性，而且，布圖設(shè)計(jì)保護(hù)的一個(gè)重要方面就是禁止他人未經(jīng)許可而復(fù)制該布圖設(shè)計(jì)，因此，著作權(quán)法的某些保護(hù)手段可以適用于布圖設(shè)計(jì)的保護(hù)。但布圖設(shè)計(jì)畢竟不是一般作品，用著作權(quán)法對(duì)其予以保護(hù)并不合適:

1.一般而言，著作權(quán)法保護(hù)的對(duì)象是非實(shí)用的作品，而布圖設(shè)計(jì)之所以受法律的保護(hù)則是因其具有實(shí)用性。

2.依照著作權(quán)法，對(duì)于具有原創(chuàng)性的作品一般均予以保護(hù)。但該保護(hù)若應(yīng)用于布圖設(shè)計(jì)，則不利于技術(shù)進(jìn)步和創(chuàng)新。作為一種科技成果，布圖設(shè)計(jì)的價(jià)值取決于其在技術(shù)上的進(jìn)步性，這也是法律對(duì)其加以保護(hù)的前提。如果對(duì)那些不具進(jìn)步性的、為專業(yè)技術(shù)人員所熟知的布圖設(shè)計(jì)進(jìn)行保護(hù)，則有悖于布圖設(shè)計(jì)保護(hù)的宗旨，無(wú)法起到鼓勵(lì)創(chuàng)新的作用。

3.著作權(quán)法無(wú)法充分保護(hù)布圖設(shè)計(jì)。著作權(quán)最主要的內(nèi)容就是復(fù)制權(quán)，著作權(quán)法主要禁止他人對(duì)作品未經(jīng)許可的復(fù)制，并不禁止實(shí)施作品內(nèi)容的行為。然而，布圖設(shè)計(jì)保護(hù)不僅在于禁止他人未經(jīng)許可的復(fù)制，更在于禁止他人將該布圖設(shè)計(jì)運(yùn)用于生產(chǎn)中。換言之，布圖設(shè)計(jì)權(quán)的內(nèi)容除了復(fù)制權(quán)外，還包括商業(yè)利用權(quán)，而這是著作權(quán)法無(wú)法提供的。

4.在集成電路產(chǎn)業(yè)中，反向工程技術(shù)已為世界各國(guó)廠商普遍采用。依據(jù)著作權(quán)法，在原作基礎(chǔ)上進(jìn)行改編的權(quán)利應(yīng)當(dāng)屬于作者，而實(shí)施反向工程的最終目的則可能是改進(jìn)他人的集成電路。如果依照著作權(quán)法將這類行為視為侵權(quán)，就有礙集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

5.著作權(quán)法對(duì)著作權(quán)所設(shè)置的過(guò)長(zhǎng)保護(hù)期不適合對(duì)布圖設(shè)計(jì)的保護(hù)。集成電路及其布圖設(shè)計(jì)的更新?lián)Q代速度非?？?，而著作權(quán)的保護(hù)期限過(guò)長(zhǎng)，如果用著作權(quán)法來(lái)保護(hù)布圖設(shè)計(jì)，則不利于集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。

(二)專利法保護(hù)模式

含有布圖設(shè)計(jì)的集成電路，若組裝成能完成一定任務(wù)、具有特定功能且符合專利條件的產(chǎn)品的話，則有可能獲得專利法的保護(hù)。但是，通過(guò)專利法保護(hù)布圖設(shè)計(jì)的模式存在以下障礙:

1.專利權(quán)的授予條件過(guò)于嚴(yán)格。根據(jù)專利法，一項(xiàng)發(fā)明創(chuàng)造必須具備較高的創(chuàng)造性方有可能被授予專利，即發(fā)明創(chuàng)造與現(xiàn)有技術(shù)相比，必須具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步。這一要求對(duì)集成電路來(lái)講顯得過(guò)于嚴(yán)格，使得大多數(shù)集成電路產(chǎn)品得不到專利法的保護(hù)。集成電路技術(shù)的發(fā)展主要表現(xiàn)在光刻線條的寬度不斷減小和集成規(guī)模的不斷提高，而這些都是工藝水平不斷提高的結(jié)果。一代新的集成電路產(chǎn)品，其布圖設(shè)計(jì)可能并沒(méi)有出現(xiàn)根本性的改進(jìn)，也沒(méi)有產(chǎn)生意想不到的結(jié)果，即難以達(dá)到專利法所要求的創(chuàng)造高度。而且，在布圖設(shè)計(jì)中，經(jīng)常使用一些現(xiàn)成的單元電路進(jìn)行組合，而這些單元電路往往是最優(yōu)化甚至是唯一性的設(shè)計(jì)，很難再做改進(jìn)。因此，利用專利法最多只可能對(duì)布圖設(shè)計(jì)中的特定部分給予保護(hù)，而很少有可能對(duì)整個(gè)布圖設(shè)計(jì)給予保護(hù)。

2.申請(qǐng)專利的程序過(guò)于繁瑣、且頗費(fèi)時(shí)日。而現(xiàn)代集成電路的更新、發(fā)展可謂日新月異，其產(chǎn)品生命周期一般較短。如果將集成電路產(chǎn)品申請(qǐng)專利，則很有可能專利還未批準(zhǔn)，該項(xiàng)產(chǎn)品就已被淘汰了。

(三)反不正當(dāng)競(jìng)爭(zhēng)法保護(hù)模式

含有布圖設(shè)計(jì)的集成電路產(chǎn)品雖然存在一定的技術(shù)因素，但該產(chǎn)品一旦投入流通領(lǐng)域，其布圖設(shè)計(jì)就會(huì)為公眾所知悉，為相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所理解，無(wú)法再作為技術(shù)秘密受反不正當(dāng)競(jìng)爭(zhēng)法的保護(hù)。同時(shí)，反不正當(dāng)競(jìng)爭(zhēng)法雖然對(duì)復(fù)制和簡(jiǎn)單“反向工程”等不正當(dāng)競(jìng)爭(zhēng)行為能起到一定的制止效果，在一定程度上間接保護(hù)布圖設(shè)計(jì)人的利益，但是，面對(duì)集成電路行業(yè)廣泛存在的“反向工程”行為，很難對(duì)該行為的“不正當(dāng)性”提供一個(gè)確切的判斷標(biāo)準(zhǔn)，其實(shí)際發(fā)揮作用的空間相當(dāng)有限。

(四)專門(mén)法保護(hù)模式

綜上所述，傳統(tǒng)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)法對(duì)布圖設(shè)計(jì)均無(wú)法提供有效的保護(hù)，因此，制定專門(mén)立法保護(hù)布圖設(shè)計(jì)就成為當(dāng)今世界各國(guó)，乃至國(guó)際條約采用的通行做法。通過(guò)專門(mén)立法，可以針對(duì)布圖設(shè)計(jì)的特點(diǎn)為其量身定制保護(hù)制度，從而有效地保護(hù)布圖設(shè)計(jì)。

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